《Science》:应力场控制金属纳米线生长
2024-09-05 13:14:48 作者:YASUHIRO KIMURA, YI CUI, TAKAM 来源:材料科学与工程 分享至:

 金属纳米线(NWs)因其独特的电学、热学和机械性能,成为未来高性能纳米器件的重要组成部分。然而,当前的纳米线生长技术面临着大规模生产的挑战,尤其是纯金属纳米线的高密度生长难以实现。本文通过控制晶粒梯度诱导的应力场,实现了高密度铝(Al)纳米线森林的生长,突破了传统技术的瓶颈,为大规模生产高质量金属纳米线提供了新方法。

原文链接

https://www.science.org/doi/10.1126/science.adn9181

研究团队开发了一种利用聚焦离子束(FIB)诱导的应力场控制方法,成功实现了Al纳米线森林的高密度生长。通过FIB辐照诱导局部晶粒粗化,形成纳米线生长的核,并在随后的退火过程中推动原子迁移,使得纳米线在指定位置大量生长。该方法显著提高了纳米线的生长密度,达到先前报道的10至100倍。

  • FIB诱导应力场:通过FIB辐照在薄膜表面产生局部应力场,促进原子迁移和纳米线的垂直生长。

  • 高密度纳米线森林:实现了高达180×10⁵/cm²的纳米线生长密度,表面积覆盖率达到0.51%,纳米线长度可达210 µm。

  • 晶粒梯度效应:FIB诱导的晶粒梯度和杂质的协同作用是实现纳米线高密度生长的关键。

  • 单晶结构和高纯度:生长的Al纳米线具有高质量的单晶结构,且杂质主要集中在纳米线基底和粗化的晶粒周围。

图1: FIB辐照区域中纳米线森林的生长。图1展示了在不同FIB蚀刻深度下生长的纳米线森林的扫描电子显微镜(SEM)图像,并通过柱状图分析了纳米线的密度和长度随蚀刻深度的变化。

图2: 薄膜的晶粒结构表征。图2通过STEM-LAADF图像展示了辐照前后薄膜的晶粒结构变化。FIB辐照导致表面晶粒粗化,而退火过程保持了这种粗化效果,促进了纳米线的生长。

图3: STEM-EBSD分析揭示的晶粒分布。图3通过自动晶体取向映射(ACOM)和STEM-EBSD分析,展示了未辐照和辐照区域的晶粒分布,确认了FIB辐照诱导的晶粒粗化效应。

图4: 应力梯度驱动原子迁移的机制分析。图4展示了基于有限元分析的应力梯度分布图,解释了晶粒梯度和应力场对原子迁移及纳米线生长的影响。
本文通过FIB诱导的应力场控制,实现了高密度金属纳米线森林的生长,为未来纳米器件的制备提供了新思路。未来的研究可以进一步优化应力场的控制,探索更多种类的金属纳米线生长,推动纳米材料的大规模应用。

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