半导体光催化作为当今研究的一个热点，在追寻高性能的过程中，却总被光腐蚀困扰，极大限制了催化剂寿命，以致影响到性能。然而目前，主要通过阻止光敏催化结合以及添加牺牲剂来延长光催化寿命，收效甚微。

    香港理工大学柴扬课题组选择CdS这种高性能的催化剂作为基体材料，在上面转移三层石墨烯作为覆盖层，实现了8倍光催化寿命的提升，同时也让光催化效率提高了2.5倍！如此显著的性能提升是因为石墨烯层不光具有高的光透过率，能够辅助光吸收的特性，并且可以促进界面载流子转移，减少载流子重组。不仅如此，借助石墨烯强的空间位阻效应，石墨烯还能隔绝外界的水与氧，而水氧正是造成光腐蚀的罪魁祸首。之后，他们还通过理论计算证明哪怕石墨烯晶格缺失8个原子，其阻碍能最低也有0.32 eV，水与氧根本无法透过，因而仅仅三层石墨烯就能极好地抵抗光腐蚀！

    高性能催化剂CdS与石墨烯间的碰撞也能擦出不一样的火花，对于光腐蚀的成因以及提升机理的解释清晰有据。简单高效的抗光腐蚀成果最终发表在JACS上了！

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责任编辑：王元

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